第64章 星晓[11] ASML EUV发布！（第2/4页）

杜颂想起陈惊璆的叮嘱，如果计海问话就透露点消息，让他带给郑河。

“研发部在盛神带领下准备攻破光源系统的核心技术问题，项目已经开启了。”杜颂如实说：“林工忙着带领团队设计芯片，至于陈总，好像在洽谈合作、投资之类的。”

计海有点懵，这说了跟没说有区别？

“进度呢？”

“什么进度？”

“核心技术？合作投资的项目？！”

“那我哪知道！”

“你——！”

计海觉得自己不该找杜颂这个蠢货，他忍下怒气小声劝说：“我跟鸿芯那边说了，人家表示很欢迎技术人才。你要是想通了，带点研发部那边的资料去见郑总。”

杜颂含糊：“我再想想。”

计海心里想别的，没多劝，摆手让他出去，回头翘班去找郑河将杜颂提供的情报交过去，换来郑河的冷笑。

“蓝河科技一直双担ic设计和光刻机的光源系统制造，业界内都知道的消息！林成建的身份，我早查清了！陈惊璆四处拉投资、找合作，到处碰壁，你以为我不知道？！”郑河有些愤怒：“你耍我？！”

计海擦着额头冒出的冷汗，慌乱否认：“不不不是……”

郑河重重冷哼，审度计海的目光如刀片般，似乎对计海的才能产生了怀疑：“那些科研成果真是你的？”

计海连连点头：“当然都是我的！郑总，您说我一个搞科研的，怎么做得来内应这种事？”

如果不是科研人员大多非长袖善舞，郑河早踹开计海了。

“虽然你搜来的消息都没用，不过这也说明蓝河科技最近确实处境艰难。”郑河脸色缓和了些，冷笑着说：“蓝河科技拉不到投资，革芯项目没人看好，陈惊璆居然不想办法解决迫在眉睫的资金问题，而是跑去各个研究团队找他们合作攻破光刻机技术！”

“哈哈哈哈……”郑河摇头，上下摇晃着食指嘲讽：“蠢！天真！果然还是太年轻！技术是核心没错，但这么做就是缘木求鱼！”

攻破核心技术哪有那么容易？

那些科研团队从立项到拿到资金再到解决关键技术问题并实现产业化，可都不是一朝一夕的事！

陈惊璆以为就他聪明、就他们想到这个联合技术链的办法？

单说那个光刻机双工作台的核心技术，11年获得国家02专项立项至今，思念过去了还没出结果。

技术攻破首要是资金，没有资金学人开什么公司？做什么技术开发？

凭那么点天真热血的冲动想法而忽略了脚下不牢靠的基石，太蠢了。

郑河如是冷漠傲慢的想着，打发走计海，将消息简单汇报给陈天鹤。

陈天鹤正从私人专机上下来，落到美国的土地上。

“陈惊璆的事以后不用跟我说。”陈天鹤冷漠的说。

他抬头观看这座灯火通明的城市——

加利福尼亚州圣迭戈市，高通总部。

陈天鹤此行的目的。

***

光源系统是光刻机制造的核心，是晶圆光刻工程的起始步，与光刻工程后续每一步息息相关。

光源系统主要三大单元是光的产生、收集和均一化，初代光刻机的光源系统还包括光的纯化，但第四代、第五代的激光器产生的光源已经达到要求，只需要让光均匀化就行。

光是雕刻的工具，由激光器产生，涉及三项技术指标即光刻分辨率、套刻精度和产能。

光刻分辨率有一道计算公式，照公式调整影响因数从而提高光刻分辨率，这方面难度不大，但是受掩膜设计、抗蚀剂工艺等牵制，必须同时达到最佳化才能实现理想的光刻分辨率。

套刻精度与光刻分辨率相关，直接受其影响。

至于产能，则与光源系统的稳定相关。

以上是对激光器的要求，相对整个光源系统的技术要求不算高，系统工程程序中最难的步骤是光的收集。

收集难度大，转化效率也低。

雷客坐在电脑前，操纵鼠标在软件里做精密的计算：“所需的极紫外光必须在真空下进行反射，不能被折射，因为它非常容易被吸收。真空腔内的反射镜需要特殊镀膜，把这束光，从光源一路引导到晶圆……经过十几次反射，最终剩下的光线不到2%！”

围观过来的研发部成员倒吸一口凉气，虽早知光源转化率低，但听到这数字还是低得让他们心疼。

光源转化率低就意味着能量的巨大消耗，最直观的例子，一台euv机器输出功率两百瓦左右，工作一天，耗电三万度。

光线利用率不到2%已经是优化其他性能所能够得到的最佳数据，决定该性能优化的决定性关键就是反射镜的精度。

“精度必须以皮秒来计算。”

换句话说，光刻机所需的反射镜精度必须打磨到万亿分之一米。